利用基尔霍夫衍射理论及多点光源的衍射光场非相干叠加方法，对光刻胶表面的衍射光场进行了快速计算机模拟，并与霍普金斯理论计算结果进行了分析比较。
抗光蚀剂
photoresist【助剂】
暂无补充释义。
相关例句
文摘:简述了印制电路板生产用的专用印料：抗蚀刻印料，抗电镀印料，阻焊印料，字符、标记印料，塞孔印料，导电印料，可剥性印料，焊膏印料等各类印料的技术规范、工艺参数和生产操作技术。
最常用的步骤是用光蚀刻或电子束蚀刻法，在矽晶圆表面的光阻层上制作出图案。
photoresist【助剂】
暂无补充释义。
利用基尔霍夫衍射理论及多点光源的衍射光场非相干叠加方法，对光刻胶表面的衍射光场进行了快速计算机模拟，并与霍普金斯理论计算结果进行了分析比较。
文摘:简述了印制电路板生产用的专用印料：抗蚀刻印料，抗电镀印料，阻焊印料，字符、标记印料，塞孔印料，导电印料，可剥性印料，焊膏印料等各类印料的技术规范、工艺参数和生产操作技术。
最常用的步骤是用光蚀刻或电子束蚀刻法，在矽晶圆表面的光阻层上制作出图案。